各种电镀工艺

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什么是“各种电镀工艺”?
这是一种贵金属电镀技术,可广泛应用于半导体、电子元件和装饰品等领域。我们提供一系列工艺方案,涵盖多种电镀液和预处理/后处理剂,例如纯金、金合金、银和铂族金属(钯、铂等),并可实现均匀电电镀、优异的耐热性/耐腐蚀性和良好的可焊性等功能。我们可提供从工艺评估到批量生产评估的全面工艺方案,满足各种需求。

我们提供更高机能的电镀工艺。

我们提供各种电镀工艺,包括贵金属电镀液,适用于从半导体和电子元件到装饰品等各种产品。我们提供适合每种应用的电镀特性和高效工艺。

田中贵金属集团旗下的EEJA株式会社销售各种电镀工艺。
更多产品详情,请访问eeja.com

纯金电镀

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PRECIOUSFAB Au系列

优异的粘合性、耐热性和可焊性使其成为半导体元件的理想材料。
优异的均匀电镀可以减少金的使用量。

PRECIOUSFAB Au-GB系列

晶圆凸块的电解电镀工艺。
它还具有优异的电镀能力,可在高电流密度和低工作温度下电镀。

MICROFAB Au系列

用于晶圆的无氰镀金电镀。具有优异的凸块和精细图案形成性能。

品名 用途 特点
PRECIOUSFAB Au8400 接合PAD段 电镀力强,中性青色
PRECIOUSFAB Au-MLA300 低Au浓度,防镍洗脱,中性氰基
MICROFAB Au310 Wafer (布线) 表面粗糙度极小,非青色
MICROFAB AuFL2100 低Au,非氰基
MICROFAB Au2168 晶圆(凸块) 低硬度、高速度、无氰化物
MICROFAB Au1151 中等硬度,快速,无氰
MICROFAB Au3151 高硬度、高速度、无氰化物
MICROFAB Au5151 Wafer (啤酒灌装) 啤酒灌装用,非氰基

金合金电镀

金合金电镀图片

PRECIOUSFAB HG系列

优异的电气性能、耐磨性、耐腐蚀性和可焊性。是连接器和其他电子元件的理想材料。

PRECIOUSFAB GT系列

电解金-锡的合金工艺。合金比例易于调整,可根据浴融温度进行调整。

PRECIOUSFAB GS系列

一种电解金银合金工艺,结合了金的耐腐蚀性和银的反射性,使其成为 LED 组件的理想材料。

品名 用途 特点
Au-Co PRECIOUSFAB HG-GVC 连接器、接线基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICC7 Ni阻隔,酸性氰化物
FINE BARRIER 7000 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Ni PRECIOUSFAB HG-GVN 连接器、接线基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICN100 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Sn20% PRECIOUSFAB GT1000 粘结剂替代 酸性氰化物
Au-Ag50% PRECIOUSFAB GS3000 引线框架 碱氰

镀金电镀

PRECIOUSFAB Au-ST

Au-ST400(无氯)可以直接在强酸性底镀液中电镀在不锈钢上。

MICROFAB Au NX-ST

无氰型的好球浴。

品名 用途 特点
PRECIOUSFAB Au-ST100 通用 酸性氰化物
K-130AF 酸性氰化物,可防霉
PRECIOUSFAB Au-ST400 SUS材料 无氯、强酸性氰化物
N-205 高光泽、强酸性氰化物
MICROFAB Au NX-ST Wafer 中性非氰

无电镀金

无电镀金图片

IM Meister Au系列

对化学镀镍膜表现出高附着力和润湿性。
IG100 即使在钯膜上也能实现均匀的膜厚。

塞拉金系列

自还原无铅、厚层化学镀金电镀工艺。

超级美克斯系列

一种无氰化学电镀工艺应用于电解镍膜和化学镀镍膜。

品名 用途 特点
IM Meister Au1100S 接合PAD段 浅色替换,青色
IM大师AuFX5 加厚替换,青色
IM MeisterAu-IG100 Pd上的均匀膜厚置换,青色
IM FAB Au-IGS2020 Ni上的均匀膜厚置换,非氰基
阿托梅克斯 陶瓷零件等 浅色替换,青色
塞拉戈尔德6070 还原原液,无铅,氰化物
超级梅克斯250 Wafer,通用 薄型替换,非青色
超级梅克斯850 还原,无氰化物

电镀

青色

品名 用途 特点
Ag-10 通用 硬,高青色
LED BRIGHT Ag-20 LED指示灯及其他 高光泽,高青色
SP-4000 引线框架 高电流密度、低青色
PRECIOUSFAB Ag2000 电子零件等 速度快,支持鼓仓,低青色

非氰型

品名 用途 特点
PRECIOUSFAB Ag4730 Wafer 半光泽,非青色
Metsil 800CNF HS 电子零件等 快速、半光、非青色

铂族金属电镀

PRECIOUSFAB钯系列

AD系列是一种钯电镀工艺,无氨气味,高温下耐腐蚀性极佳,并且对工作环境友好。

PRECIOUSFAB Pt 系列

一种铂金电镀工艺,可实现厚镀层,且应力低,无裂纹。

PRECIOUSFAB铑、钌、铱

电镀工艺。

品名 用途 特点
Pd PRECIOUSFAB Pd-ADP720 导轨
(Pd-PPF)
薄膜高耐热,中性
PRECIOUSFAB Pd-ADG860
PRECIOUSFAB Pd82GVE 电子零件等 Pd-Ni20%合金
PRECIOUSFAB PC200 Pd-Co20%合金
MICROFAB Pd750 晶圆(凸块) 快速、加厚
Pt PRECIOUSFAB Pt2500 电子零件等 耐酸性和高耐腐蚀性
PRECIOUSFAB Pt-SF 碱性,加厚
PRECIOUSFAB HP3500 铂钌合金,耐腐蚀性强,应力低
Rh PRECIOUSFAB Rh200 高硬度、低应力、厚
PRECIOUSFAB Rh2000 高耐腐蚀性和硬度
Ru PRECIOUSFAB Ru300 酸性、高硬度、高纯度
Ir PRECIOUSFAB Ir300 高硬度

应用案例专题 (电源设备模块)

电镀

构件 金属元素
键合丝 Al, Au, Cu, PCC, Ag
电镀 Ni/(Pd)/Au or Ag
接合垫片 Al, Cu
焊盘电镀区域示意图

我们针对各种键合丝和键合焊盘的组合,提出了实现优异键合性能的最佳电镀条件。

镍/金电镀(镍层厚度5微米/金层厚度0.05微米)

Φ50um pad

镍/金电镀Φ50μm焊盘表面的扫描电镜图像
镍/金电镀Φ50μm焊盘的横截面扫描电镜图像

Ni/Pd/Au电镀(Ni厚度5um / Pd厚度0.1um / Au厚度0.05um)

□100um pad

Ni/Pd/Au电镀100μm焊盘表面的SEM图像
镍/钯/金电镀100μm焊盘的横截面扫描电镜图像
  • 钯电镀可抑制镍电镀的腐蚀和扩散。
  • 我们提供从前置处理条件到电镀工艺的最佳工艺综合方案。

面向欧姆结的背面电极

MICROFAB ELN520的使用部位和截面说明图

MICROFAB ELN520 – 垂直欧姆结背面电极的镍电镀

  • 对于垂直结构硅芯片例如二极管
  • 在硅芯片背面直接进行化学电镀后,通过烧结形成镍硅化物合金层。

硅片背面成型工艺

工序 产品名称
1 预处理  – 
2 催化剂活化  – 
3 化学电镀镍 MICROFAB ELN520
4 干燥、熔融  – 
5 无电镀金 IM FAB Au-IGS4200
  • 镍析出物应力低,因此可以抑制电镀的翘曲。
  • 在镍上进行化学电镀可改善芯片贴装接合性。

引线框架、铜夹、PCB等用金属化层

Pd-PPF电镀工艺的横截面示意图

我们的钯电镀具有高阻隔性能,即使是薄膜也能提高耐热性。

Pd-PPF电镀工艺

*...Palladium Pre-Plated Frame

电解Ni GALVANOMEISTER Ni100
电解Pd PRECIOUSFAB Pd系列
电解Au POSTFLASH 100

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