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以液體釕前驅物實現世界最高水準的蒸氣壓値
開發CVD與ALD用前驅物「TRuST」
2020年10月5日
田中貴金屬工業株式會社 開發出蒸氣壓相較於以往的液體釕 前驅物 提高多達約100倍，用於CVD 與ALD 的前驅物「TRuST」。經本公司內部評估，此實驗數值在常溫下為世界最佳的蒸氣壓值。
在進行本項開發時，田中貴金屬工業負責前驅物的設計及合成，其成膜特性的最優化則由韓國嶺南大學校工科學院新素材工學部的SOO－HYUN, KIM教授負責研究。
這項技術對於用於智慧型手機與個人電腦，或在今後預料會有進一步需求的數據中心使用的半導體的高性能化與省電力化做出貢獻。