各種電鍍製程

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各種電鍍製程產品圖片

什麼是各種電鍍製程?
這是一種貴金屬電鍍技術,可廣泛應用於半導體、電子元件和裝飾品等領域。我們提供一系列製程方案,涵蓋多種電鍍液和預處理/後處理劑,例如純金、金合金、銀和鉑族金屬(鈀、鉑等),並可實現均勻電電著、優異的耐熱性/耐腐蝕性和良好的可焊性等功能。我們可提供從製程評估到大量生產評估的全面製程方案,滿足各種需求。

提供高機能的電鍍製程提案。

本公司齊備了自半導體、電子零件到各式飾品等,以貴金屬電鍍液為首的各種電鍍製程。對應各種用途的電鍍特性,並提案生產性較高的製程。

田中貴金屬集團旗下的EEJA株式會社銷售各種電鍍製程。
更多產品詳情,請瀏覽eeja.com

純金電鍍

純金電鍍圖片

PRECIOUSFAB Au系列

具有優良的接合性、耐熱性、焊錫接合性,最適合用於半導體用零件。
可藉由優良的均一電著性,減少所使用的金含量。

PRECIOUSFAB Au-GB系列

晶圓凸块的電解電鍍製程。
它還具有優異的電著能力,可在高電流密度和低工作溫度下電鍍。

MICROFAB Au系列

用於晶圓的無氰鍍金電鍍。具有優異的凸块和精細圖案形成性能。

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB Au8400 接合PAD段 電著力強,中性青色
PRECIOUSFAB Au-MLA300 低Au濃度,防鎳洗脫,中性氰基
PRECIOUSFAB Au-GB5 晶圓(凸块) 低操作溫度,中性青色
MICROFAB Au310 Wafer (佈線) 表面粗糙度極小,中性非氰基
MICROFAB AuFL2100 低Au濃度,中性無氰
MICROFAB Au660 晶圓(凸块) 硬度低、速度快、中性無氰化物
MICROFAB Au3151 高硬度、高速度、中性無氰

金合金電鍍

金合金電鍍圖片

PRECIOUSFAB HG系列

優異的電氣性能、耐磨性、耐腐蝕性和可焊性。是連接器 和其他電子元件的理想材料。

PRECIOUSFAB GT系列

電解金-錫的合金工藝。合金比例易於調整,可根據浴融溫度進行調整。

PRECIOUSFAB GS系列

一種電解金銀合金工藝,結合了金的耐腐蝕性和銀的反射性,使其成為 LED 組件的理想材料。

品名 用途 特色
Au-Co PRECIOUSFAB HG-GVC 連接器、接線基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICC7 Ni阻隔,酸性氰化物
FINE BARRIER 7000 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Ni PRECIOUSFAB HG-GVN 連接器、接線基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICN100 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Sn20% PRECIOUSFAB GT1000 粘結劑替代 酸性氰化物
Au-Ag50% PRECIOUSFAB GS3000 引線框架 堿氰

鍍金電鍍

PRECIOUSFAB Au-ST

Au-ST400(無氯)可直接在強酸性底鍍液中電鍍在不銹鋼上。

MICROFAB Au NX-ST

無氰型的好球浴。

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB Au-ST100 通用 酸性氰化物
K-130AF 酸性氰化物,可防黴
PRECIOUSFAB Au-ST400 SUS材料 無氯、強酸性氰化物
N-205 高光澤、強酸性氰化物
MICROFAB Au NX-ST Wafer 中性非氰

無電鍍金

無電鍍金圖片

IM Meister Au系列

對化學鍍鎳膜表現出高附著力和潤濕性。
IG100 即使在鈀膜上也能實現均勻的膜厚。

塞拉金系列

自還原無鉛、厚層化學鍍金電鍍製程。

超級美克斯系列

一種無氰化學電鍍製程應用於電解鎳膜和化學鍍鎳膜。

品名 用途 特色
IM Meister Au1100S 接合PAD段 淺色替換,青色
IM大師AuFX5 加厚替換,青色
IM MeisterAu-IG100 Pd上的均勻膜厚置換,青色
IM FAB Au-IGS2020 Ni上的均勻膜厚置換,非氰基
阿托梅克斯 陶瓷零件等 淺色替換,青色
塞拉戈爾德6070 還原原液,無鉛,氰化物
超級梅克斯250 Wafer,通用 薄型替換,非青色
超級梅克斯850 還原,無氰化物

電鍍

青色

品名 用途 特色
Ag-10 通用 硬,高青色
LED BRIGHT Ag-20 LED指示燈及其他 高光澤,高青色
SP-4000 引線框架 高電流密度、低青色

非氰型

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB AG4730 Wafer 非氰基

鉑族金屬電鍍

PRECIOUSFAB鈀系列

AD系列是一種鈀電鍍製程,無氨氣味,高溫下耐腐蝕性極佳,並且對工作環境友好。

PRECIOUSFAB Pt 系列

一種鉑金電鍍製程,可實現厚鍍層,且應力低,無裂紋。

PRECIOUSFAB銠、釕、銥

電鍍製程。

品名 用途 特色
Pd PRECIOUSFAB Pd-ADP720 導軌
(Pd-PPF)
薄膜高耐熱,中性
PRECIOUSFAB Pd-ADG860
PRECIOUSFAB Pd82GVE 連接器 Pd-Ni20%合金
PRECIOUSFAB PC200 Pd-Co20%合金
MICROFAB Pd700 晶圓(凸块) 中性,加厚
Pt PRECIOUSFAB Pt2000 電子零件等 耐酸性和高耐腐蝕性
PRECIOUSFAB Pt-SF 堿性,加厚
Rh PRECIOUSFAB Rh200 低應力、高硬度
PRECIOUSFAB Rh2000 高耐腐蝕性和硬度
Ru PRECIOUSFAB Ru1000 酸性,低Ru濃度
Ir PRECIOUSFAB IR300 高硬度

應用案例專題 (電源設備模塊)

電鍍

構件 金屬元素
接合線 Al, Au, Cu, PCC, Ag
電鍍 Ni/(Pd)/Au or Ag
接合墊片 Al, Cu
焊盤電鍍區域示意圖

我們針對各種接合線和鍵合焊盤的組合,提出了優異鍵合性能的最佳電鍍條件。

鎳/金電鍍(鎳層厚度5微米/金層厚度0.05微米)

Φ50um pad

鎳/金電鍍Φ50μ m焊盤表面的掃描電子顯微鏡影像
鎳/金電鍍Φ50μ m焊盤的橫斷面掃描電子顯微鏡影像

Ni/Pd/Au電鍍(Ni厚度5um / Pd厚度0.1um / Au厚度0.05um)

□100um pad

Ni/Pd/Au電鍍100μm焊盤表面的SEM圖
鎳/鈀/金電鍍100μm焊盤的橫斷面掃描電子顯微鏡影像
  • 鈀電鍍可抑制鎳電鍍的腐蝕和擴散。
  • 我們提供從前置處理條件到電鍍製程的最佳製程綜合方案。

面向歐姆結的背面電極

MICROFAB ELN520的使用部位和截面說明圖

MICROFAB ELN520 – 垂直歐姆結背面電極的鎳電鍍

  • 對於垂直結構Si晶片例如二極體
  • 在Si晶片背面直接進行化學電鍍後,透過燒結形成鎳矽化物合金層。

硅片背面成型工藝

工序 產品名稱
1 預處理  – 
2 觸媒活化  – 
3 化學電鍍鎳 MICROFAB ELN520
4 幹燥、熔融  – 
5 無電鍍金 IM FAB Au-IGS4200
  • 鎳析出物應力低,因此可以抑制電鍍的翹曲。
  • 在鎳上進行化學電鍍可改善晶片貼裝接合性。

引線框架、銅夾、PCB等用金屬化層

Pd-PPF電鍍製程的橫斷面示意圖

我們的鈀電鍍具有高阻隔性能,即使是薄膜也能提高耐熱性。

Pd-PPF電鍍製程

*...Palladium Pre-Plated Frame

電解Ni GALVANOMEISTER Ni100
電解Pd PRECIOUSFAB Pd系列
電解Au POSTFLASH 100

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