各種電鍍製程

其他 能源與氫能社會 電子 感測器材料 探針 醫用 半導體 接合與封裝 接合材料 繼電器與電氣連接 車用應用 貴金屬薄膜與沉積技術 電化學用電極 電接點
各種電鍍製程產品圖片

什麼是各種電鍍製程?
這是一種貴金屬電鍍技術,可廣泛應用於半導體、電子元件和裝飾品等領域。我們提供一系列製程方案,涵蓋多種電鍍液和預處理/後處理劑,例如純金、金合金、銀和鉑族金屬(鈀、鉑等),並可實現均勻電電著、優異的耐熱性/耐腐蝕性和良好的可焊性等功能。我們可提供從製程評估到大量生產評估的全面製程方案,滿足各種需求。

提供高機能的電鍍製程提案。

本公司齊備了自半導體、電子零件到各式飾品等,以貴金屬電鍍液為首的各種電鍍製程。對應各種用途的電鍍特性,並提案生產性較高的製程。

田中貴金屬集團旗下的EEJA株式會社銷售各種電鍍製程。
更多產品詳情,請瀏覽eeja.com

純金電鍍

純金電鍍圖片

PRECIOUSFAB Au系列

具有優良的接合性、耐熱性、焊錫接合性,最適合用於半導體用零件。
可藉由優良的均一電著性,減少所使用的金含量。

PRECIOUSFAB Au-GB系列

晶圓凸块的電解電鍍製程。
它還具有優異的電著能力,可在高電流密度和低工作溫度下電鍍。

MICROFAB Au系列

用於晶圓的無氰鍍金電鍍。具有優異的凸块和精細圖案形成性能。

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB Au8400 接合PAD段 電著力強,中性青色
PRECIOUSFAB Au-MLA300 低Au濃度,防鎳洗脫,中性氰基
MICROFAB Au310 Wafer (佈線) 表面粗糙度極小,非青色
MICROFAB AuFL2100 低Au,非氰基
MICROFAB Au2168 晶圓(凸块) 低硬度、高速度、無氰化物
MICROFAB Au1151 中等硬度,快速,無氰
MICROFAB Au3151 高硬度、高速度、無氰化物
MICROFAB Au5151 Wafer (啤酒灌裝) 啤酒灌裝用,非氰基

金合金電鍍

金合金電鍍圖片

PRECIOUSFAB HG系列

優異的電氣性能、耐磨性、耐腐蝕性和可焊性。是連接器 和其他電子元件的理想材料。

PRECIOUSFAB GT系列

電解金-錫的合金工藝。合金比例易於調整,可根據浴融溫度進行調整。

PRECIOUSFAB GS系列

一種電解金銀合金工藝,結合了金的耐腐蝕性和銀的反射性,使其成為 LED 組件的理想材料。

品名 用途 特色
Au-Co PRECIOUSFAB HG-GVC 連接器、接線基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICC7 Ni阻隔,酸性氰化物
FINE BARRIER 7000 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Ni PRECIOUSFAB HG-GVN 連接器、接線基板 酸性氰化物
PRECIOUSFAB HG-ICN100 Ni阻隔,酸性氰化物
Au-Sn20% PRECIOUSFAB GT1000 粘結劑替代 酸性氰化物
Au-Ag50% PRECIOUSFAB GS3000 引線框架 堿氰

鍍金電鍍

PRECIOUSFAB Au-ST

Au-ST400(無氯)可直接在強酸性底鍍液中電鍍在不銹鋼上。

MICROFAB Au NX-ST

無氰型的好球浴。

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB Au-ST100 通用 酸性氰化物
K-130AF 酸性氰化物,可防黴
PRECIOUSFAB Au-ST400 SUS材料 無氯、強酸性氰化物
N-205 高光澤、強酸性氰化物
MICROFAB Au NX-ST Wafer 中性非氰

無電鍍金

無電鍍金圖片

IM Meister Au系列

對化學鍍鎳膜表現出高附著力和潤濕性。
IG100 即使在鈀膜上也能實現均勻的膜厚。

塞拉金系列

自還原無鉛、厚層化學鍍金電鍍製程。

超級美克斯系列

一種無氰化學電鍍製程應用於電解鎳膜和化學鍍鎳膜。

品名 用途 特色
IM Meister Au1100S 接合PAD段 淺色替換,青色
IM大師AuFX5 加厚替換,青色
IM MeisterAu-IG100 Pd上的均勻膜厚置換,青色
IM FAB Au-IGS2020 Ni上的均勻膜厚置換,非氰基
阿托梅克斯 陶瓷零件等 淺色替換,青色
塞拉戈爾德6070 還原原液,無鉛,氰化物
超級梅克斯250 Wafer,通用 薄型替換,非青色
超級梅克斯850 還原,無氰化物

電鍍

青色

品名 用途 特色
Ag-10 通用 硬,高青色
LED BRIGHT Ag-20 LED指示燈及其他 高光澤,高青色
SP-4000 引線框架 高電流密度、低青色
PRECIOUSFAB Ag2000 電子零件等 速度快,支持鼓倉,低青色

非氰型

品名 用途 特色
PRECIOUSFAB Ag4730 Wafer 半光澤,非青色
Metsil 800CNF HS 電子零件等 快速、半光、非青色

鉑族金屬電鍍

PRECIOUSFAB鈀系列

AD系列是一種鈀電鍍製程,無氨氣味,高溫下耐腐蝕性極佳,並且對工作環境友好。

PRECIOUSFAB Pt 系列

一種鉑金電鍍製程,可實現厚鍍層,且應力低,無裂紋。

PRECIOUSFAB銠、釕、銥

電鍍製程。

品名 用途 特色
Pd PRECIOUSFAB Pd-ADP720 導軌
(Pd-PPF)
薄膜高耐熱,中性
PRECIOUSFAB Pd-ADG860
PRECIOUSFAB Pd82GVE 電子零件等 Pd-Ni20%合金
PRECIOUSFAB PC200 Pd-Co20%合金
MICROFAB Pd750 晶圓(凸块) 快速、加厚
Pt PRECIOUSFAB Pt2500 電子零件等 耐酸性和高耐腐蝕性
PRECIOUSFAB Pt-SF 堿性,加厚
PRECIOUSFAB HP3500 鉑釕合金,耐腐蝕性強,應力低
Rh PRECIOUSFAB Rh200 高硬度、低應力、厚
PRECIOUSFAB Rh2000 高耐腐蝕性和硬度
Ru PRECIOUSFAB Ru300 酸性、高硬度、高純度
Ir PRECIOUSFAB Ir300 高硬度

應用案例專題 (電源設備模塊)

電鍍

構件 金屬元素
接合線 Al, Au, Cu, PCC, Ag
電鍍 Ni/(Pd)/Au or Ag
接合墊片 Al, Cu
焊盤電鍍區域示意圖

我們針對各種接合線和鍵合焊盤的組合,提出了優異鍵合性能的最佳電鍍條件。

鎳/金電鍍(鎳層厚度5微米/金層厚度0.05微米)

Φ50um pad

鎳/金電鍍Φ50μ m焊盤表面的掃描電子顯微鏡影像
鎳/金電鍍Φ50μ m焊盤的橫斷面掃描電子顯微鏡影像

Ni/Pd/Au電鍍(Ni厚度5um / Pd厚度0.1um / Au厚度0.05um)

□100um pad

Ni/Pd/Au電鍍100μm焊盤表面的SEM圖
鎳/鈀/金電鍍100μm焊盤的橫斷面掃描電子顯微鏡影像
  • 鈀電鍍可抑制鎳電鍍的腐蝕和擴散。
  • 我們提供從前置處理條件到電鍍製程的最佳製程綜合方案。

面向歐姆結的背面電極

MICROFAB ELN520的使用部位和截面說明圖

MICROFAB ELN520 – 垂直歐姆結背面電極的鎳電鍍

  • 對於垂直結構Si晶片例如二極體
  • 在Si晶片背面直接進行化學電鍍後,透過燒結形成鎳矽化物合金層。

硅片背面成型工藝

工序 產品名稱
1 預處理  – 
2 觸媒活化  – 
3 化學電鍍鎳 MICROFAB ELN520
4 幹燥、熔融  – 
5 無電鍍金 IM FAB Au-IGS4200
  • 鎳析出物應力低,因此可以抑制電鍍的翹曲。
  • 在鎳上進行化學電鍍可改善晶片貼裝接合性。

引線框架、銅夾、PCB等用金屬化層

Pd-PPF電鍍製程的橫斷面示意圖

我們的鈀電鍍具有高阻隔性能,即使是薄膜也能提高耐熱性。

Pd-PPF電鍍製程

*...Palladium Pre-Plated Frame

電解Ni GALVANOMEISTER Ni100
電解Pd PRECIOUSFAB Pd系列
電解Au POSTFLASH 100

相關資訊

關聯公司(電鍍產品和設備)

首先,請造訪聯絡我們瞭解更多產品資訊。

如有任何關於產品規格、價格、交貨時間等方面的問題,請隨時在此處聯絡我們。

產品聯絡我們