创新的直接图案化电镀技术为新一代电子产品开辟了新的可能性。

电子 化合物与纳米粒子 半导体 贵金属薄膜与沉积技术 电化学用电极

该技术不需要真空环境或光刻胶,并且使用低于 100°C 的低温工艺生产低电阻精细导线。
可以直接在多种材料上成型。
预计它将开辟下一代电子产品的新领域,而这些领域是现有金属布线成型技术无法实现的。

研究人员和开发人员

Masahiro Ito,EEJA业务管理部研究开发部化学科
伊藤正弘
EEJA商业管理部门
研究开发部,化学科

新闻稿

PRESS2017.05.31
日本电镀工程师开发创新的直接图案化电镀技术开启新一代电子技术的可能性

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