차세대 비휘발성 메모리용 타겟
"차세대 비휘발성 메모리용 타겟"란?
금속 산화물이나 귀금속 합금의 분말을 고온 소결 하여 성형한 스퍼터링 타겟으로, 광학 디바이스나 전자 부품의 박막 형성에 사용됩니다. 소결에 의해, 조성의 균일성이나 고밀도화를 실현해, 안정된 성막 프로세스와 막 품질을 지지합니다.
당사의 첨단 소결 기술이 고객의 신뢰에 부응합니다.
당사의 소결 기술을 응용한 귀금속 박막 재료는 반도체나 자기 디스크를 비롯한 다양한 일렉트로닉스 산업에서 높은 평가를 얻어 왔습니다.
향후 점점 고도화되는 박막 일렉트로닉스 분야에서 항상 귀금속 스퍼터링 재료의 리딩 컴퍼니로서 앞으로도 고객의 신뢰에 응할 것입니다.
자기 기록 미디어용 타겟
특징
산화물을 자성 재료 중에 미세 균일 분산 시키는 독자적인 제법에 의해 매우 품위 인 기록 미디어용 산화물 함유 스퍼터링 타겟의 제조를 실시하고 있습니다.
- 산화물을 미세 균일하게 분산시킨 타겟은 파티클 발생이 적고, 안정된 스퍼터링이 가능
- 하드 디스크의 대용량화에 수반해, 합금 조성 이나 첨가 산화물이 복잡화. 이러한 기술 트렌드에 맞춘 타겟 제조가 가능. 프로토타입 개발품부터 양산품까지 고객의 용도에 맞춘 제공이 가능
- 스크랩의 회수에서 재제품화, 부품에 부착된 귀금속의 회수까지 스퍼터링 프로세스를 총 지원
종류
| 타겟 | 순도 | 목적 |
|---|---|---|
| CoCrPt－SiO2 | 99.9% | 수직 자기 기록막 재료 |
| CoCrPt－TiO2 | ||
| CoCrPt－Cr2O3 | ||
| 각종 복합 산화물 함유 자성 재료 | ||
| FePt 산화물 등 | 99.9% | 차세대 수직 자기 기록 재료 |
＊본 표 기재의 합금 조성은 대표예입니다. 각종 합금 조성 및 첨가하는 산화물에 관해서는 용명해 주십시오.
목적
- 하드디스크 미디어(그라뉼라 매체)용 기록막
(흑점:SiO2, 매트릭스: 균일 CoCrPt 합금)
차세대 비휘발성 메모리용 타겟
당사의 탁월한 용해 기술, 소결 기술, 재생 처리 기술을 응용한 귀금속 박막 재료는 반도체 분야에서도 널리 사용되고 있습니다. 그 중에서도 차세대 고속, 대용량 메모리로서 기대가 큰 MRAM(자기 랜덤 액세스 메모리) 분야에 있어서는 자기 기록 미디어용 타겟으로 축적한 제조 기술을 응용하여 품위 인 철백금계 합금 타겟 등의 제조를 실시하고 있습니다.
특징
진공 용해에 의한 탈가스와 급냉 응고에 의한 미세 분말의 제조, 그리고 진공가공 소결에 의해 제조된 타겟의 조성 분포는 매우 균질하고 파티클 발생이 적고 높은 성능을 발휘합니다.
- 진공용해 기술에 의해 매우 적은 잔류 산소량을 실현
- 고순도, 고밀도 및 매우 높은 조성 균질성
- 3원계, 4원계 합금, 나아가 산화물 첨가 등 다양한 요구에 대응 가능
종류
| 타겟 | 순도 | 목적 |
|---|---|---|
| FePt | 99.99% | MRAM용 강자성막, 자기 헤드, 자기 센서 |
| CoPt |
＊본 표 기재의 합금 조성은 대표예입니다. 각종 합금 조성 및 첨가하는 산화물에 관해서는 용명해 주십시오.
목적
FePt 타겟 중의 Pt 조성의 균일성(형광X선 분석에 의한 평가)