CVD/ALD用貴金屬前驅物
CVD = Chemical Vapor Deposition
ALD = Atomic Layer Deposition
開發針對次世代半導體的高純度貴金屬前驅物。
開發、提供前驅物
本公司開發各種CVD／ALD前驅物。而且，製作半導體用薄膜的CVD設備、評估薄膜用的各種分析儀器（FE-SEM、AFM、XRF等）產品俱全，依目的提供所需前驅物。
■前驅物產品範例（釕）
開發以釕為主的貴金屬前驅物。
| 產品名稱 | 結構 |
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Carish Ru liquid precursor |
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TRuST Ru liquid precursor |
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DCR Ru solid precursor |
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![[Vapor pressure 比較圖表] Carish、TRUST、DCR](https://prod-cms-cache-bucket.s3-ap-northeast-1.amazonaws.com/wp-content/uploads/sites/images/ex/tw/products/images/a06/img_block02_01.png)