熔融法製造的濺鍍靶材和真空蒸鍍材

能源與氫能社會醫療; 半導體鍵結 接合與封裝 車用應用 氣相 沉積與濺鍍; 貴金屬薄膜與沉積技術 電化學用電極
熔融法靶材和蒸鍍材的產品圖片

什麼是「熔融法製造的濺鍍靶材和真空蒸鍍材」?
這些高純度貴金屬材料由田中貴金屬提供,並以熔融法製造。它們廣泛用作半導體和光學元件薄膜成型的高品質靶材和蒸鍍材。我們也提供濺鍍薄膜成型測試服務,田中貴金屬脫穎而出。

我們為靶材和蒸鍍材提供高純度產品。

貴金屬薄膜在包括半導體在內的各種工業領域都有應用。
我們提供各種形狀和尺寸的高純度濺鍍靶材和蒸鍍材,以滿足您的應用需求。
在考慮各種材料時,我們也提供濺鍍沉積測試。

熔融法靶材和蒸鍍材

特色

  • 靶材應無缺陷,例如針孔、氧化物和氣體
  • 以超音波探傷法檢測背板黏合率的品質保證體系
  • 用於貴金屬蒸鍍材可以以顆粒、塊狀、棒狀、絲狀等形式供應。
  • 也可以用從設備和夾具中回收貴金屬來補充產品。
  • 晶體尺寸可根據需要進行調整,從細到粗。

種類

材料 標準產品
(重量百分比)
高純度產品
(重量百分比)
合金
99.99 99.999 AuSi、AuZn、AuSb、AuSn 等。
克拉金(K9 至 K18)
白金 99.99 - -
銥型*1 99.9 99.99 -
銠型*1 99.9 - 各種各樣的
99.95 - -
銀基*2 99.99 - 各種各樣的

*1. 銥和銠等高熔點材料也是採用熔融法製造的,原料為不含氧化物、氣體和空隙等缺陷的錠塊。
*2 我們生產的銀合金與純銀相比,具有更高的環境耐受性(抗硫化和防潮性)。

金靶材組織

我們根據客戶要求,透過實施穩定的組織控制,提供高品質的靶材。

金靶材晶體結構掃描電子顯微鏡影像
金靶材晶體結構
平均晶粒粒徑:25.18μm
粒徑分析結果-平均晶粒粒徑:25.18μm

用於反射膜和電極的銀合金靶材

特色

DVD 和藍光光碟採用層壓結構,包括印刷層、保護層、反射/記錄層和樹脂層。反射/記錄層採用蒸鍍材,而貴金屬(反射膜)則因其固有的耐陽光直射、耐高溫和耐高濕性能而被廣泛應用。產品的壽命取決於氣相沉積反射膜的質量,精度不足會導致印刷/反射層邊緣剝落,或水分滲入反射膜,造成生鏽和反射功能喪失,從而縮短使用壽命。我們提供具有優異耐環境性能的貴金屬(純銀、銀合金等)靶材用於製作反射/透射膜。

純銀與我們的銀合金的比較

[濺射後的反射率比較圖] 純銀與本公司開發的銀合金的比較
濺鍍後立即反射

金合金靶材的製備及成膜性能評價

我們可以製造金合金靶材,並以薄膜沉積法進行試生產。透過對沉積樣品進行定量比較,我們可以確定最佳材料。

金基靶材沉積樣品
金基靶材沉積樣品
(內部實施)
濺鍍膜的 La*b* 座標系
濺鍍膜的 La*b* 座標系

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