溶解法的溅射靶材和真空蒸镀材料

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熔解法靶材和蒸镀材料的产品图片

什么是“溶解法的溅射靶材和真空蒸镀材料”?
这些高纯度贵金属材料由田中贵金属提供,采用熔解法制造。它们广泛用作半导体和光学器件薄膜成型的高品质靶材和蒸镀材料。我们也提供溅射薄膜成型测试服务,田中贵金属脱颖而出。

我们为靶材和蒸镀材料提供高纯度产品。

贵金属薄膜在包括半导体在内的各种工业领域都有应用。
我们提供各种形状和尺寸的高纯度溅镀靶材和蒸镀材料,以满足您的应用需求。
在考虑各种材料时,我们也提供溅射沉积测试。

熔解法靶材和蒸镀材料

特点

  • 靶材应无缺陷,例如针孔、氧化物和气体
  • 超声波探伤衬板接合率的质量保证体系
  • 用于贵金属蒸镀材料可以以颗粒、块状、棒状、丝状等形式供应。
  • 也可以用从设备和夹具中回收贵金属来补充产品。
  • 结晶尺寸也可根据要求从微细到粗大进行调整

种类

材质 标准品
(wt%)
高纯度品
(wt%)
合金
金系 99.99 99.999 AuSi、AuZn、AuSb、AuSn等
克拉Au (K9~K18)
铂系 99.99 - -
铱系※1 99.9 99.99 -
铑系列※1 99.9 - 各种
钯系 99.95 - -
银色系※2 99.99 - 各种

*1. 铱和铑等高熔点材料也是采用熔解法制造的,原料为不含氧化物、气体和空隙等缺陷的锭块。
*2 我们生产的银合金与纯银相比,具有更高的环境耐受性(抗硫化和防潮性)。

金靶材组织

我们根据客户要求,通过实施稳定的组织控制,提供高质量的靶材。

金靶材晶体结构扫描电镜图像
金靶材晶体结构
平均晶粒径:25.18μm
粒度分析结果——平均晶粒径:25.18μm

用于反射膜和电极的银合金靶材

特点

DVD 和蓝光光盘采用层压结构,包括印刷层、保护层、反射/记录层和树脂层。反射/记录层采用蒸镀材料,而贵金属(反射膜)因其固有的耐阳光直射、耐高温和耐高湿性能而被广泛应用。产品的寿命取决于气相沉积反射膜的质量,精度不足会导致印刷/反射层边缘剥落,或水分渗入反射膜,造成生锈和反射功能丧失,从而缩短使用寿命。我们提供具有优异耐环境性能的贵金属(纯银、银合金等)靶材用于制作反射/透射膜。

纯银与我公司开发的银合金的比较

[溅射后的反射率比较图] 纯银与本公司开发的银合金的比较
溅射后的反射率

金合金靶材的制备及成膜性能评价

我们可以制造金合金靶材,并通过薄膜沉积法进行试生产。通过对沉积样品进行定量比较,我们可以确定最佳材料。

金基靶材沉积样品
金基靶材沉积样品
(内部实施)
溅镀膜的 La*b* 坐标系
溅镀膜的 La*b* 坐标系

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