めっき装置
めっき技術の先端をいく高性能なめっき装置をお届けします。
量産システムから実験・少量生産までニーズに合わせた各種ウェハーめっき装置をお届けします。
ケミカルプロセスとのマッチングを追求したトータルシステムは、大口径・微細化と進む技術にも高パフォーマンスでお応えしています。
めっき装置は田中貴金属のグループ会社の三友セミコンエンジニアリング株式会社の販売製品です。
製品詳細はこちら(mitomo-semicon-eng.co.jp)
ウェハー対応プレイティングシステム
量産型フルオートコンパクト機 POSFER E(ポスファーE)
- フットプリントを40%削減(当社比)
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- 対応ウェハー : 100~200mm
実験・少量生産対応プレイティングシステム
実験・少量生産向セミオート機
Stir CUP-PLATER (スターカッププレーター )/
CUP-PLATER CUP-PLATER(カッププレーター)
- 実験試作段階から量産規模まで用途に合わせたシステム構築
- セミオートタイプならではのメンテナンス性と実用性
- 対応ウェハー : 100~300mm
ウェハー対応プレイティングシステム
量産型フルオート機 POSFER C/M(ポスファーC/M)
- 単層、多層めっきを行う全自動タイプ
- 生産計画に合わせた増設設計が可能
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- 対象ウェハー:100~200mm
ウェハー対応プレイティングシステム
中量生産型フルオートコンパクト機 POSFER C-ST(ポスファー C-ST)
- 中量生産向けのコンパクトなワンフレーム構造
- 当社最小の全自動タイプ
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- 対象ウェハー:100~200mm
開発実験対応プレイティングシステム
小型軽量設計・マニュアル機 RAD-Plater(ラドプレーター)
- カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
- めっき液が10Lでの運用可能
- 100V電源+エアーで簡単設置
- 高アスペクトのビアフィリング性良好