めっき装置

めっき装置

めっき技術の先端をいく高性能なめっき装置をお届けします。

[トータルアプローチコンセプト説明図]ケミカルプロセス、トータルシステム、装置

量産システムから実験・少量生産までニーズに合わせた各種ウェハーめっき装置をお届けします。ケミカルプロセスとのマッチングを追求したトータルシステムは、大口径・微細化と進む技術にも高パフォーマンスでお応えしています。

ウェハー対応プレイティングシステム

量産型フルオートコンパクト機 POSFER E(ポスファーE)

ポスファーEのイメージ
  • フットプリントを40%削減(当社比)
  • カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
  • 対応ウェハー : 100~200mm

実験・少量生産対応プレイティングシステム

実験・少量生産向セミオート機
Stir CUP-PLATER (スターカッププレーター )/
CUP-PLATER CUP-PLATER(カッププレーター)

スターカッププレーター/カッププレーターのイメージ
  • 実験試作段階から量産規模まで用途に合わせたシステム構築
  • セミオートタイプならではのメンテナンス性と実用性
  • 対応ウェハー : 100~300mm

ウェハー対応プレイティングシステム

量産型フルオート機 POSFER C/M(ポスファーC/M)

ポスファーC/Mのイメージ
  • 単層、多層めっきを行う全自動タイプ
  • 生産計画に合わせた増設設計が可能
  • カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
  • 対象ウェハー:100~200mm

ウェハー対応プレイティングシステム

中量生産型フルオートコンパクト機 POSFER C-ST(ポスファー C-ST)

ポスファー C-STのイメージ
  • 中量生産向けのコンパクトなワンフレーム構造
  • 当社最小の全自動タイプ
  • カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
  • 対象ウェハー:100~200mm

開発実験対応プレイティングシステム

小型軽量設計・マニュアル機 RAD-Plater(ラドプレーター)

ラドプレーターのイメージ
  • カップ内にパドル攪拌機構を有したStir-Cupを搭載
  • めっき液が10Lでの運用可能
  • 100V電源+エアーで簡単設置
  • 高アスペクトのビアフィリング性良好

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