각종 도금 프로세스

각종 도금 프로세스

각종 도금 프로세스 제품 이미지

고 특성의 도금 프로세스를 제안합니다

반도체, 일렉트로닉스 부품에서 장식품에 이르기까지, 귀금속 도금액 을 비롯한 각종 도금 프로세스를 갖추고 있습니다. 각각의 용도에 맞 춘 도금 특성과 생산성 높은 프로세스를 제안합니다.

순금 도금

PRECIOUSFAB Au series

본딩성・내열성・납땝성이 뛰어나 반도체용 부품에 최적. 뛰어 난 균일 전착성에 의해 사용되는 금량의 절감이 가능.

PRECIOUSFAB Au-GB series

웨이퍼 범프용 전해 금 도금 프로세스. 균일 전착성도 뛰어나며, 고전류 밀도, 낮은 조작 온도에서의 도금이 가능.

MICROFAB Au series

웨이퍼용 비시안 금 도금. 범프・미세 패턴 형성이 뛰어난 특성을 발휘.

금 도금 이미지
명칭 용도 특징
PRECIOUSFAB Au 8400 접합 PAD부 균일 전착성에 양호, 중성 시안
PRECIOUSFAB Au-MLA300 저 Au 농도, Ni 용출 방지, 중성 시안
PRECIOUSFAB Au-GB5 웨이퍼 (범프) 낮은 조작 온도, 중성 시안
MICROFAB Au310 웨이퍼 (배선) 표면 거칠기 극소, 중성 비시안
MICROFAB AuFL2100 저 Au 농도, 중성 비시안
MICROFAB Au660 웨이퍼 (범프) 저경도, 고속, 중성 비시안
MICROFAB Au3151 고경도, 고속, 중성 Non Cyan

금 합금 도금

PRECIOUSFAB HG series

전기특성・내마모성・내식성・납땜성도 뛰어나다. 커넥터 등 전 자부품에 최적.

PRECIOUSFAB GT series

전해 금-주석 합금 프로세스. 합금 비율의 조정이 용이해서 용융 온도에 맞추어 조정 가능.

PRECIOUSFAB GS series

전해 금-은 합금 프로세스. 금의 내식성과 은의 반사율을 겸비해서 LED용 부품에 최적.

순금 합금 도금 이미지
명칭 용도 특징
Au-Co PRECIOUSFAB HG-GVC 커넥터, 배선 기판 산성 시안
PRECIOUSFAB HG-ICC7 Ni 배리어 대응, 산성 시안
FINE BARRIER 7000
Au-Ni PRECIOUSFAB HG-GVN 커넥터, 배선 기판 산성 시안
PRECIOUSFAB HG-ICN100 Ni 배리어 대응, 산성 시안
Au-Sn20% PRECIOUSFAB GT1000 융착제 대체 산성 시안
Au-Ag50% PRECIOUSFAB GS3000 리드 프레임 알칼리 시안

금 스트라이크 도금

PRECIOUSFAB Au-ST

Au-ST400(무염소)은 강산성 스트라이크욕으로 특히 스테인리스 등에 직접 도금 가능.

MICROFAB Au NX-ST

비시안 타입의 스트라이크액.

명칭 용도 특징
PRECIOUSFAB Au-ST100 범용 산성 시안
K-130AF 산성 시안, 곰팡이 방지 대응
PRECIOUSFAB Au-ST400 SUS재 무염소, 강산성 시안
N-205 고광택, 강산성 시안
MICROFAB Au NX-ST 웨이퍼 중성 비시안

무전해 금 도금

IM MEISTER Au series

무전해 Ni 막 상에 높은 밀착성, 땜납 습윤 성을 발휘. IG100은 Pd 막 상에서도 균일한 막두께를 실현.

CERAGOLD series

자기 환원 타입 Pb 프리의 후막 무전해 금 도금 프로세스

SUPERMEX series

전해・무전해 Ni 막 상에 적용되는 비시안계 무전해 금 도금 프 로세스.

무전해 금 도금 이미지
명칭 용도 특징
IM MEISTER Au1100S 접합 PAD부 박막 치환, 시안
IM MEISTER AuFX5 후막 치환, 시안
IM MEISTER Au-IG100 Pd상의 균일 막 후 치환, 시안
IM FAB Au-IGS2020 Ni상의 균일한 막 두께, 치환, 비 시안
ATOMEX 세라믹 부품 등 박막 치환, 시안
CERAGOLD 6070 후막 환원, Pb 프리, 시안
SUPERMEX 250 웨이퍼, 범용 박막 치환, 비시안
SUPERMEX 850 후막 환원, 비시안

은 도금

시안 타입

명칭 용도 특징
Ag-10 범용 경질, 높은 시안
LED BRIGHT Ag-20 LED 기타 광택, 높은 시안
SP-4000 리드 프레임 높은 전류 밀도 대응, 낮은 시안

비 시안 타입

명칭 용도 특징
PRECIOUSFAB Ag4730 웨이퍼 비 시안

백금(Pt)족계 도금

PRECIOUSFAB Pd series

AD 시리즈는 암모니아 냄새가 없고 고온에서의 내식성이 뛰어 나 작업 환경을 배려한 팔라듐 도금 프로세스.

PRECIOUSFAB Pt series

저응력으로 크랙이 없고 후막이 가능한 백금 도금 프로세스.

PRECIOUSFAB Rh, Ru, Ir

공업용, 장식용으로 가능한 도금 프로세스

명칭 용도 특징
 Pd PRECIOUSFAB Pd-ADP720 리드 프레임
(Pd-PPF)
박막 고내열, 중성
PRECIOUSFAB Pd-ADG860
PRECIOUSFAB Pd82GVE 커넥터 Pd-Ni20%합금
PRECIOUSFAB PC200 Pd-Co20%합금
MICROFAB Pd750 웨이퍼 (범프) 중성, 후막
Pd-LF-800S 범용 스트라이크~막 부착
Pt PRECIOUSFAB Pt2000 전자 부품등 산성, 고내식성
PRECIOUSFAB Pt-SF 알칼리성,막 부착
Rh PRECIOUSFAB Rh200 저응력, 고경도
PRECIOUSFAB Rh2000 고내식성, 고경도
Ru PRECIOUSFAB Ru 산성, 낮은 Ru 농도
Ir PRECIOUSFAB Ir300 고경도

애플리케이션 사례 특집 (파워 디바이스 모듈)

본딩 패드용 도금

  •   재료 금속 원소
    본딩 와이어 Al, Au, Cu, PCC, Ag
    본딩 패드용 도금 Ni/(Pd)/Au or Ag
    본딩 패드 Al, Cu
  • 본딩 패드용 도금 사용 부위 설명도

본딩 와이어 및 본딩 패드의 다양한 조합에서 본딩성이 우수한 최적의 도금 조건을 제안합니다.

Ni/Au 도금 (Ni 두께 5um / Au 두께 0.05um)

Φ50um pad

  • Ni/Au 도금 - Φ50um pad 표면 SEM 이미지
  • Ni/Au 도금 - Φ50um pad 단면 SEM 이미지

Ni/Pd/Au 도금 (Ni 두께 5um / Pd 두께 0.1um / Au 두께 0.05um)

□100um pad

  • Ni/Pd/Au 도금 - □100um pad 표면 SEM 이미지
  • Ni/Pd/Au 도금 - □100um pad 단면 SEM 이미지
  • Pd 도금이 Ni 도금의 부식과 확산을 억제합니다.
  • 전처리 조건부터 Au 도금 프로세스까지 최적의 공정을 종합적으로 제안합니다.

오믹 접합용 후면 전극

  • MICROFAB ELN520 사용 부위 및 단면 설명도

MICROFAB ELN520 – 수직 구조의 오믹 접합 시 후면 전극용 Ni 도금

  • 다이오드 등의 수직 구조 Si 칩에 적용
  • Si 칩 후면에 직접 무전해 Ni 도금을 한 후, 소결로 니켈 실리사이드 합금층 형성

Si 칩 후면 형성 공정

  공정 제품명
1 전처리  – 
2 촉매 활성화  – 
3 무전해 Ni 도금 MICROFAB ELN520
4 건조, 소결  – 
5 무전해 금 도금 IM FAB Au-IGS4200
  • Ni 석출물은 응력이 낮아 도금 후 웨이퍼 휨을 억제할 수 있음
  • Ni 위에 무전해 Au 도금을 하면 다이어태치 접합성이 우수해짐

리드 프레임, 구리 클립, PCB 등을 위한 메탈라이징 층

  • Pd-PPF용 도금 공정 사용 부위 및 단면 설명도

당사의 Pd 도금 피막은 차단성이 높아, 박막의 내열성 향상을 기대할 수 있습니다.

Pd-PPF용 도금 공정
*…Palladium Pre-Plated Frame

전해 Ni GALVANOMEISTER Ni100
전해 Pd PRECIOUSFAB Pd 시리즈
전해 Au POSTFLASH 100