Plattierungsanlagen
Wir bieten hochleistungsfähige Plattierungsvorrichtungen an, die sich führender Plattierungstechnik bedienen.
Wir bieten verschiedene Art von Wafer- Plattierungsvorrichtungen gemäß den Kundenanforderungen an, von Anlagen zur Massenproduktion bis hin zu Versuchszweck und Kleinserienproduktion. Das Gesamtsystem bemüht sich um eine Verträglichkeit mit der chemischen Verarbeitung und befriedigt mit der sich fortlaufend weiterentwickelnden Technik und seiner hohen Leistungsfähigkeit den Bedarf an sowohl großkalibrigen Teilen wie auch Miniaturisierung.
Die Plattierungsanlagen sind Produkte der Mitomo Semicon Engineering Co., Ltd., einem Mitglied der TANAKA Precious Metals.
Für Produktdetails klicken Sie hier (mitomo-semicon-eng.co.jp).
Plattierungssystem für Wafern
Kompaktes, vollautomatisches Gerät zur Massenproduktion POSFER E
- Standfläche um 40% reduziert (im Vergleich mit unseren Produkten)
- Mit einem Rührbecher ausgestattet, wobei im Becher ein Rührpaddel vorgesehen ist.
- Geeignete Wafern: 100 bis 200 mm
Plattierungssystem für Versuchszwecke oder Kleinserienproduktionen
Halbautomatische Anlagen für Versuchszwecke oder Kleinserienproduktionen
Stir CUP-PLATER / CUP-PLATER
- Der Systemaufbau lässt sich von der Stufe der Prototypenfertigung bis hin zur Massenproduktion den Verwendungszwecken anpassen.
- Gerade der Halbautomatische Typ ist leicht zu warten und praktisch
- Geeignete Wafern: 100 bis 300 mm
Plattierungssystem für Wafern
Vollautomatische Massenproduktionsanlage POSFER C/M
- Vollautomatischer Typ für einschichtige oder mehrschichtige Plattierung
- Erlaubt in Abhängigkeit vom Produktionsplan ein ausbaufähiges Design
- Mit einem Rührbecher ausgestattet, wobei im Becher ein Rührpaddel vorgesehen ist.
- Geeignete Wafern: 100 bis 200 mm
Plattierungssystem für Wafern
Vollautomatische, kompakte Anlage für mittelgroße Serienproduktion POSFER C-ST
- Kompakter Einzelrahmenaufbau für mittelgroße Serienproduktion
- Das kleinste vollautomatische Modell unserer Firma
- Mit einem Rührbecher ausgestattet, wobei im Becher ein Rührpaddel vorgesehen ist.
- Geeignete Wafern: 100 bis 200 mm
Für Entwicklung und Versuchszwecke geeignetes Plattierungssystem
Kleinformatiges, leichtgewichtiges Design, handbetriebene Anlage RAD-Plater
- Mit einem Rührbecher ausgestattet, wobei im Becher ein Rührpaddel vorgesehen ist.
- Kann mit 10 l Platierungslösungt betrieben werden.
- Leichte Installation einer 100 V Strom- sowie Luftversorgung
- Gute Via-Füllung bei hohem Seitenverhältnis