자기 기록 미디어용 타겟

당사의 소결 기술을 응용한 귀금속 박막 재료는 반도체나 자기 디스크를 비롯한 다양한 일렉트로닉스 산업에서 높은 평가를 받아왔 습니다.앞으로 점점 더 고도화하는 박막 일렉트로닉스 분야에 있어서 항상 귀금속 스퍼터링 재료의 선두 기업으로서 앞으로도 고객님의 신뢰에 부응해가겠습니다.

■특징

산화물을 자성재료중에 미세균일 분산시키는 독자적인 제조기법 에 의해 지극히 고품위의 기록 미디어용 산화물 함유 스퍼터링 타 겟을 제조하고 있습니다.

• 산화물을 미세균일하게 분산시킨 타겟은 파티클 발생이 적으 며 안정된 스퍼터링이 가능
• 하드 디스크의 대용량화에 따라 합금 조성이나 첨가 산화물의 복잡화. 이런 기술 트랜드에 맞춘 타겟 제조가 가능. 시험개발 품에서 양산품까지 고객님의 용도에 맞춘 제공이 가능
• 스크랩의 회수에서 再제품화, 부품에 부착한 귀금속의 회수까 지 스퍼터 공정을 총체적으로 지원

■종류

■용도

• 하드 디스크 미디어(입상 매체)용 기록막

CoCrPt-SiO₂타겟중의 산화물 분산 상태 예
(흑점: SiO₂, 매트릭스: 균일한 CoCrPt 합금)

차세대 비휘발성 메모리용 타겟

당사의 탁월한 용해 기술, 소결 기술, 재생처리 기술을 응용한 귀금속 박막 재료는 반도체 분야에 있어서 널리 사용되고 있습니다. 그 가운 데에서도 차세대의 고속, 대용량 메모리로써 기대가 큰 MRAM( 자기 랜덤 액세스 메모리 ) 분야에 있어서는 자기 기록 미디어용 타겟에서 키워온 제조 기술을 응용해 고품위의 철백금 (FePt) 계 합금 타겟 등 을 제조하고 있습니다.

■특징

진공 용해에 의한 탈가스와 급냉 응고에 의한 미세 분말의 제조, 그리고 진공가압 소결에 의해 제조된 타겟의 조성 분포는 지극히 균질하며 파티클 발생이 적고, 높은 퍼포먼스를 발휘합니다.

• 진공 용해 기술에 의해 지극히 적은 잔류 산소량을 실현
• 고순도(99.99% 이상), 고밀도, 그리고 지극히 높은 조성 균질성
• 3원계, 4원계 합금, 나아가서는 산화물 첨가 등 다양한 요망에 대응 가능

■종류

■용도

MRAM이나 자기 헤드, 자기 센서의 자성막용

FePt 타겟중에 있어서의 Pt 조성의 균일성(형 광 X선 분석에 의한 평가)