Precious Metal Film Formation Methods

各種めっきプロセス

各種めっきプロセス製品イメージ

高機能なめっきプロセスをご提案します。

半導体・エレクトロニクス部品から装飾品まで、貴金属めっき液をはじめとした各種めっきプロセスを揃えています。それぞれの用途に応じためっき特性と、生産性の高いプロセスをご提案します。

純金めっき
金合金めっき
金ストライクめっき
無電解金めっき
銀めっき
白金族系めっき
アプリケーション事例特集 (パワーデバイスモジュール)

各種めっきプロセスは田中貴金属のグループ会社のEEJA株式会社の販売製品です。
製品詳細はこちら (eeja.com) link

純金めっき

■プレシャスファブAuシリーズ

ボンディング性・耐熱性・はんだ付け性に優れ半導体用部品に最適。
優れた均一電着性により使用金量の削減が可能。

■プレシャスファブAu-GBシリーズ

ウェハーバンプ用電解金めっきプロセス。
均一電着性にも優れ、高電流密度、低操作温度でのめっきが可能。

■ミクロファブAuシリーズ

ウェハー用ノンシアン金めっき。バンプ・微細パターン形成に優れた特性を発揮。

品名	用途	特長
プレシャスファブAu8400	接合PAD部	均一電着性良好、中性シアン
プレシャスファブAu-MLA300	接合PAD部	低Au濃度、Ni溶出防止、中性シアン
プレシャスファブAu-GB5	Wafer (バンプ)	低操作温度、中性シアン
ミクロファブ Au310	Wafer (配線)	表面粗さ極少、中性ノンシアン
ミクロファブ AuFL2100	Wafer (配線)	低Au濃度、中性ノンシアン
ミクロファブ Au660	Wafer (バンプ)	低硬度、高速、中性ノンシアン
ミクロファブ Au3151	Wafer (バンプ)	高硬度、高速、中性ノンシアン

金合金めっき

■プレシャスファブHGシリーズ

電気特性・耐磨耗性・耐食性・はんだ付け性に優れている。コネクタなど電子部品に最適。

■プレシャスファブGＴシリーズ

電解金-すずの合金プロセス。合金比率の調整が容易で浴融温度に合わせた調整が可能。

■プレシャスファブGSシリーズ

電解金-銀の合金プロセス。金の耐食性と銀の反射率を併せもち、LED用部品に最適。

品名		用途	特長
Au-Co	プレシャスファブHG-GVC	コネクタ、配線基板	酸性シアン
	プレシャスファブHG-ICC7		Niバリア対応、酸性シアン
	FINE BARRIER 7000		Niバリア対応、酸性シアン
Au-Ni	プレシャスファブHG-GVN	コネクタ、配線基板	酸性シアン
Au-Ni	プレシャスファブHG-ICN100	コネクタ、配線基板	Niバリア対応、酸性シアン
Au-Sn20%	プレシャスファブGT1000	融着剤代替	酸性シアン
Au-Ag50%	プレシャスファブGS3000	リードフレーム	アルカリシアン

金ストライクめっき

■プレシャスファブAu-ST

Au-ST400(塩素フリー)は強酸性のストライク浴で特にステンレスなどに直接めっき可能。

■ミクロファブAu NX-ST

ノンシアンタイプのストライク浴。

品名	用途	特長
プレシャスファブAu-ST100	汎用	酸性シアン
K-130AF	汎用	酸性シアン、防カビ対応
プレシャスファブAu-ST400	SUS材	塩素フリー、強酸性シアン
N-205	SUS材	高光沢、強酸性シアン
ミクロファブAu NX-ST	Wafer	中性ノンシアン

無電解金めっき

■IMマイスターAuシリーズ

無電解ニッケル膜上に高い密着性、はんだ濡れ性を発揮。
IG100はパラジウム膜上でも均一な膜厚を実現。

■セラゴールドシリーズ

自己還元タイプ鉛フリーの厚付け無電解金めっきプロセス。

■スーパーメックスシリーズ

電解・無電解ニッケル膜上に適用されるノンシアン系無電解金めっきプロセス。

品名	用途	特長
IMマイスターAu1100S	接合PAD部	薄付け置換、シアン
IMマイスターAuFX5		厚付け置換、シアン
IMマイスターAu-IG100		Pd上の均一膜厚置換、シアン
IM FAB Au-IGS2020		Ni上の均一膜厚置換、ノンシアン
アトメックス	セラミック部品等	薄付け置換、シアン
セラゴールド 6070	セラミック部品等	厚付け還元、鉛フリー、シアン
スーパーメックス 250	Wafer、汎用	薄付け置換、ノンシアン
スーパーメックス 850	Wafer、汎用	厚付け還元、ノンシアン

銀めっき

■シアンタイプ

品名	用途	特長
Ag-10	汎用	硬質、高シアン
LED BRIGHT Ag-20	LEDその他	光沢、高シアン
SP-4000	リードフレーム	高電流密度対応、低シアン

■ノンシアンタイプ

品名	用途	特長
プレシャスファブAg4730	Wafer	ノンシアン

白金族系めっき

■プレシャスファブPdシリーズ

ADシリーズはアンモニア臭がなく、高温での耐食性に優れ作業環境に配慮したパラジウムめっきプロセス。

■プレシャスファブPtシリーズ

低応力でクラックなく厚付けが可能な白金めっきプロセス。

■プレシャスファブRh、Ru、Ir

工業用、装飾用に可能なめっきプロセス。

品名		用途	特長
Pd	プレシャスファブ Pd-ADP720	リードフレーム (Pd-PPF)	薄膜高耐熱、中性
	プレシャスファブPd-ADG860	リードフレーム (Pd-PPF)	薄膜高耐熱、中性
	プレシャスファブPd82GVE	コネクタ	Pd-Ni20％合金
	プレシャスファブPC200	コネクタ	Pd-Co20％合金
	ミクロファブ Pd700	Wafer (バンプ)	中性、厚付け
Pt	プレシャスファブ Pt2000	電子部品等	酸性、高耐食性
Pt	プレシャスファブPt-SF		アルカリ性、厚付け
Rh	プレシャスファブRh200		低応力、高硬度
Rh	プレシャスファブRh2000		高耐食性、高硬度
Ru	プレシャスファブRu1000		酸性、低Ru濃度
Ir	プレシャスファブIr300		高硬度

アプリケーション事例特集 (パワーデバイスモジュール)

■ボンディングパット向けめっき

	部材	金属元素
①	ボンディングワイヤ	Al, Au, Cu, PCC, Ag
②	ボンディングパット向けめっき	Ni/(Pd)/Au or Ag
②	ボンディングパット	Al, Cu

ボンディングワイヤとボンディングパッドの様々な組合せにおいて、ボンディング性に優れる最適なめっき条件を提案します。

Ni/Auめっき (Ni厚み 5um / Au厚み 0.05um)

Φ50um pad

Ni/Pd/Auめっき (Ni厚み5um / Pd厚み 0.1um / Au厚み 0.05um)

□100um pad

Pdめっきにより、Niめっきの腐食と拡散を抑制します
前処理条件からAuめっきプロセスまで、最適プロセスをトータルでご提案します。

■オーミック接合向け裏面電極

MICROFAB ELN520 – 縦型構造のオーミック接合向け裏面電極用Niめっき

ダイオード等の縦型構造Siチップ向け
Siチップ裏面に直接無電解Niめっきを施した後、シンタリングによりニッケルシリサイド合金層を形成

Si チップ裏面形成プロセス

	工程	製品名
1	前処理	–
2	触媒活性化	–
3	無電解Niめっき	MICROFAB ELN520
4	乾燥、シンタリング	–
5	無電解金めっき	IM FAB Au-IGS4200

Ni析出物は応力が低いため、めっき後のウエハの反りを抑えることが可能
Ni上に無電解Auめっきを施すことにより、ダイアタッチの接合性が良好に

■リードフレーム、銅クリップ、PCB等向けメタライズ層

当社のPdめっき被膜はバリア性が高く薄膜での耐熱性向上が期待できます。

Pd-PPF用めっきプロセス
*…Palladium Pre-Plated Frame

電解Ni	GALVANOMEISTER Ni100
電解Pd	PRECIOUSFAB Pdシリーズ
電解Au	POSTFLASH 100