Edelmetallvorläufer für CVD/ALD
CVD = Chemical Vapor Deposition ALD = Atomic Layer Deposition
Entwicklung einer hochreinen Edelmetall Vorläufersubstanz für die Halbleiter der nächsten Generation.
Entwicklung und Angebot von Vorläufer
Unsere Firma hat verschiede CVD/ALD Vorläufer entwickelt. Weiterhin haben wir CVD-Vorrichtungen für die Anfertigung von Halbleiter Dünnschichten, verschiedene Geräte zur Bewertung dieser Dünnschichten (FE-SEM, AFM, GD-MS etc.) im Angebot und bieten Vorläufer für verschiedene Verwendungszwecke an.
■Beispiele für Vorläufer (Ruthenium)
Wir entwickeln Edelmetallvorläufer vorwiegend auf der Basis von Ruthenium
| Product Name | Structure |
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Carish Ru liquid precursor |
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TRuST Ru liquid precursor |
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DCR Ru solid precursor |
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![[Vergleichsdiagramm des Dampfdrucks] Carish, TRuST, DCR](https://prod-cms-cache-bucket.s3-ap-northeast-1.amazonaws.com/wp-content/uploads/sites/images/ex/de/products/images/a06/img_block02_01.png)