Platinmaterialien für Glasschmelzanlagen

Platinmaterialien für Glasschmelzanlagen

Wir fertigen Glasschmelzanlagen entsprechend der von Ihren gewünschten Spezifikationen an, die auch strengen Einsatzbedingungen widerstehen können.

Als Platinanlagen zum Glasschmelzen, die zur Herstellung von qualitativ hochwertigem Glas verwendet werden, steht jetzt eine Produktpalette von oxiddispersionsverstärkten (ZrO2) Platinlegierungen zur Verfügung. Diese reduzieren Verformungen der Geräte und Bauteile bei hohen Temperaturen und tragen somit zu einer Verlängerung der Lebensdauer der Vorrichtungen bei. Platin-Rhodium Legierungen sowie auch dispersionsverstärkte Platinlegierungen sind erhältlich, können entsprechend der gewünschten Spezifikationen angefertigt werden.

Dispersionsverstärkte Platinwerkstoffe

Eigenschaften

  • Wesentlich höhere Kriechfestigkeit und Zugfestigkeit bei hohen Temperaturen als Platin.
  • Im Vergleich zu herkömmlichen Platinwerkstoffe wird eine deutlich verlängerte Lebensdauer realisiert.
  • Auch mit dünneren Platinschichten als bisher können gleichartige Leistungsfähigkeit erhalten werden.
  • Indem die Menge der verwendeten Metalle reduziert wird, kann eine Kostenreduktion erzielt werden.

Anwendung

Durchführung für die Herstellung von Glasfasern, Anlagen zur Herstellung optischer Gläser, Anlagen zur Herstellung von Glas für elektronische Bauteile, Anlagen zur Herstellung von Dünnglas, Anlagen zur Herstellung von Kristallglas und dergleichen

Querschnittbilder kristalliner Strukturen

Oxiddispersionsverstärktes Platin

Gewöhnliches Platin (Schmelzmaterial)

  • Da das Seitenverhältnis (das Verhältnis von Länge zu Breite) von oxiddispersionsverstärktem Platin größer ist als von gewöhnlichem Platin (Schmelzmaterial), wird dessen Zeitstandfestigkeit wesentlich erhöht und dabei gleichzeitig angestrebt, mit weniger Edelmetall auszukommen.
  • Kristallbildung bei hohen Temperaturen wird reduziert.

Vergleich der Kriechfestigkeit (1400°C)

Bezeichnung Zusammensetzung (Gew.-%) Schmelzpunkt
(℃)
Dichte
(g/cm3
Spezifischer Widerstand
(μΩcm)
Pt Au Rh
Pt 100 1768 21.45 10.8
T1-Pt 100 1768 21.45 10.8
PtRh10 90 10 1850 20.10 19.2
PtRh20 80 20 1885 18.80 20.8
nanoplat™Pt 100 1768 21.45 10.8
nanoplat™R 90 10 1850 20.10 19.2
nanoplat™BP 100 1768 21.45 10.8
nanoplat™BPR 90 10 1850 20.10 19.2
PtAu5 95 5 1738 21.30 17.4