磁記錄媒體用靶材

應用了本公司燒結技術的貴金屬薄膜材料，在半導體及磁碟等各種電子產業中，獲得了極高的評價。
今後，在日漸高度化的薄膜電子工程領域中，我們也將持續以貴金屬濺鍍材料龍頭企業的身分來回應顧客的信賴。

■特色

藉由讓氧化物在磁性材料中細微均勻分散的獨創製法，製造加入氧化物的極高純度記錄媒體用濺鍍靶材。

• 讓氧化物細微均勻分散的靶材不易產生顆粒，可進行穩定的濺鍍。
• 合金組成及添加氧化物會隨著硬碟的大容量化而變得複雜。本公司則可以製造出配合這種技術趨勢的靶材。從試作開發品到量產品，都可配合顧客所需的用途提供服務。
• 自回收廢料到進行再產品化、回收附著於零件上的貴金屬，皆可提供濺鍍製程的綜合支援。

■種類

■用途

• 硬碟媒體（粒狀媒體）用記錄膜

CoCrPt-SiO₂靶材中的氧化物分散狀態之範例
（黑點：二氧化矽、基體：均一性鈷鉻鉑合金）

次世代非揮發性記憶體用靶材

應用了本公司卓越的溶解技術、燒結技術、再生處理技術的貴金屬薄膜材料，也被廣泛使用於半導體領域。其中，在以次世代的高速、大容量記憶體而倍受期待的MRAM（磁阻式隨機存取記憶體）領域中，本公司應用了以磁記錄媒體用靶材所培育的製造技術，製造出高純度鐵白金類合金靶材等。

■特色

透過真空溶解的除氣、藉由急冷快速凝固製造的細微粉末以及真空加壓燒結，這些製程所製造的靶材之組成分布極具均質性，不易產生顆粒，可發揮出極高的效能。

• 藉由真空溶解技術來實現極少的殘留氧量
• 高純度、高密度，以及極高度組成均質性
• 可配合三元、四元合金，甚至氧化物添加等各種需求

■種類

■用途