CVD/ALD用貴金屬前驅物

CVD/ALD用貴金屬前驅物

CVD/ALD用貴金屬前驅物產品圖片

CVD = Chemical Vapor Deposition
ALD = Atomic Layer Deposition

開發針對次世代半導體的高純度貴金屬前驅物。

開發、提供前驅物

本公司開發各種CVD/ALD前驅物。而且,製作半導體用薄膜的CVD裝置、評估薄膜用的各種分析儀器(FE-SEM、AFM、XRF等)產品俱全,依目的提供所需前驅物。

前驅物產品範例(釕)

開發以釕為主的貴金屬前驅物。

產品名稱 結構
Carish
Ru liquid precursor
Structure of Carish Ru liquid precursor
TRuST
Ru liquid precursor
Structure of TRuST Ru liquid precursor
DCR
Ru solid precursor
Structure of DCR Ru solid precursor
[Vapor pressure 比較圖表] Carish、TRUST、DCR